美國作為一個藝術(shù)氛圍濃厚的國家，同時也是藝術(shù)留學(xué)中最熱門的選擇之一。此外，美國還擁有眾多知名的藝術(shù)類院校，包括專門的藝術(shù)學(xué)院和綜合類大學(xué)下設(shè)的藝術(shù)系。今天，51出國留學(xué)小編就為大家?guī)砹艘凰绹乃囆g(shù)院校——紐約時裝學(xué)院。那么，紐約時裝學(xué)院好嗎？申請要求有哪些呢？接下來，大家一起來了解一下吧！
紐約時裝學(xué)院好嗎？
院校簡介：
紐約時裝學(xué)院（Fashion Institute of Technology）是國際著名的服裝與藝術(shù)設(shè)計院校，成立于1944年，位于美國紐約市曼哈頓區(qū)。創(chuàng)始人莫蒂默（mortimer c ritter）希望學(xué)院成為“一座像mit麻省理工學(xué)院一樣的設(shè)計學(xué)院”。因此經(jīng)過不懈的努力，F(xiàn)iT已經(jīng)成為具有豐富的成功的歷史，在紐約城市經(jīng)濟的沖擊下仍然持久屹立的著名學(xué)府。
涵蓋專業(yè)：
本科：服裝設(shè)計、時尚管理、化妝品和香水營銷、玩具設(shè)計、室內(nèi)設(shè)計、裝飾品設(shè)計、廣告設(shè)計、廣告和營銷通訊、媒體互動、國際商務(wù)等
研究生：純藝術(shù)、平面設(shè)計、化妝品和香水管理和營銷、美術(shù)和零售藝術(shù)管理、戲服和紡織品、服裝設(shè)計等
地理位置：
紐約時裝學(xué)院坐落于美國紐約曼哈頓的第七大道。學(xué)校毗鄰韓國城、麥迪遜廣場花園等地標建筑以及著名的曼哈頓服裝區(qū)（Garment Distruct），眾多優(yōu)質(zhì)的面料店坐落于曼哈頓服裝區(qū)（第七、八大道與35-39街交疊區(qū)域），包括常在Project Runway中出現(xiàn)的Mood Fabric。并且還有許多時尚品牌和時尚界名人都會到曼哈頓服裝區(qū)進行面料調(diào)研和采購。
知名校友：
Calvin Klein：著名品牌Calvin Klein創(chuàng)始人，全美最具知名度的時裝設(shè)計師
David Chu：華裔美國人，創(chuàng)立美國家喻戶曉的便服品牌Nautica
Nina Garcia：美版《Marie Claire》雜志的時裝總監(jiān)，曾任美國版《Elle》雜志的時裝總監(jiān)
紐約時裝學(xué)院申請要求有哪些？
1、語言成績
雅思6.5分；托福80分
2、申請材料
申請表、高中/大學(xué)成績單（中英文版）、相關(guān)考試成績、語言成績、推薦信兩封、個人陳述和簡歷、作品集。
3、作品集要求
作品集主要應(yīng)由你直接觀察的物體組成，以繪畫、油畫等方式呈現(xiàn)。這些作品可以包括自畫像、靜物畫、人物畫、風(fēng)景畫或室內(nèi)畫。應(yīng)該使用如鉛筆、水筆、炭筆、油筆等不同媒介完成作品。申請者應(yīng)已具有較強的繪圖和二維設(shè)計能力，要對色彩有一定的理解。構(gòu)圖能力是作品集考察的核心。藝術(shù)作品應(yīng)該能夠反映出你對于設(shè)計理念和構(gòu)成的理解，包括如何運用線條、色彩、明暗、平衡和韻律等等因素。
研究生作品集除了要滿足上述要求之外，同時還要擁有20個設(shè)計作品，包括：AutoCad或Vectorworks草圖；Illustrator、InDesign和Photoshop熟練運用；3D作品。提交手工創(chuàng)作和其他軟件作品有加分。攝影、繪畫、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。
紐約時裝學(xué)院好嗎？上述內(nèi)容就是關(guān)于FIT的詳細介紹。準備申請該院校或者對FIT感興趣的同學(xué)，可以了解一下上述介紹。除此之外，如果大家想要了解更多關(guān)于美國藝術(shù)大學(xué)的詳細介紹，請繼續(xù)關(guān)注51出國留學(xué)網(wǎng)。
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