紐約時裝學(xué)院（常簡稱FIT）是美國為數(shù)不多的藝術(shù)設(shè)計類公立院校，它教育質(zhì)量上乘，特別是服裝設(shè)計專業(yè)享譽全球。同時，由于是公立院校，學(xué)費收費較私立院校低，留學(xué)性價比高。下面就來分享一下紐約時裝學(xué)院申請攻略。
一、院校介紹
紐約時裝技術(shù)學(xué)院(Fashion Institute of Technology，State University of New York)是國際著名的服裝與藝術(shù)設(shè)計院校，成立于1944年，位于美國紐約市曼哈頓區(qū)。開設(shè)專業(yè)涉及如時裝設(shè)計、廣告設(shè)計、電腦動畫及互動媒體、織物設(shè)計、室內(nèi)設(shè)計、時裝攝影、時尚產(chǎn)品管理等。創(chuàng)始人莫蒂默(mortimer critter)希望學(xué)院成為“一座像麻省理工學(xué)院一樣的設(shè)計學(xué)院”。因此經(jīng)過不懈的努力，fit已經(jīng)成為具有豐富的成功的歷史，在紐約城市經(jīng)濟(jì)的沖擊下仍然持久屹立的著名學(xué)府。
二、紐約時裝學(xué)院申請要求
1、本科申請要求
語言成績：雅思：6.5分；托福80分。
申請材料：申請表、官方英文成績單、托?；蜓潘汲煽儭⒆髌芳?、短文(750字以內(nèi))本科
作品集要求：不同的專業(yè)有不同的要求，但總體來說可以借鑒如下標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行準(zhǔn)備。
作品集主要應(yīng)由你直接觀察的物體組成，以繪畫、油畫等方式呈現(xiàn)。這些作品可以包括自畫像、靜物畫、人物畫、風(fēng)景畫或室內(nèi)畫。應(yīng)該使用如鉛筆、水筆、炭筆、油筆等不同媒介完成作品。申請者應(yīng)已具有較強的繪圖和二維設(shè)計能力，要對色彩有一定的理解。構(gòu)圖能力是作品集考察的核心。例如室內(nèi)設(shè)計看重房間的移動和兩個房間之間的關(guān)系；平面設(shè)計集中于圖像的眼動如何運用到廣告中；服裝設(shè)計考察服裝在人體上的流動性。你的藝術(shù)作品應(yīng)該能夠反映出你對于設(shè)計理念和構(gòu)成的理解，包括如何運用線條、色彩、明暗、平衡和韻律等等因素。
2、研究生申請要求
語言成績雅思：6.5分；托福：90分。
申請材料：申請表、托?；蜓潘汲煽?、作品集、短文、簡歷、推薦信兩封、可能需要面試。
研究生作品集要求：
展覽設(shè)計：20個設(shè)計作品，包括：AutoCad或Vectorworks草圖；Illustrator、InDesign和Photoshop熟練運用；3D作品。提交手工創(chuàng)作和其他軟件作品有加分。攝影、繪畫、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。
插畫：提交15-20個作品。必須包含寫生素描。圖片格式為LOW-RES(72像素)。不符合要求的作品集不會被列入考慮。不接受幻燈片、原創(chuàng)作品或網(wǎng)站鏈接。
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